CIOE光博會

作為具規模及影響力的光電產業綜合性展會，第23屆光電博覽會將于2021年9月16-18日在深圳國際會展中心舉辦，同期六展覆蓋信息通信、激光、紅外、紫外、精密光學、鏡頭及模組、傳感等版塊，面向光電及應用領域展示前沿的光電創新技術及綜合解決方案，掌握行業最新動向、洞察市場發展趨勢、助力企業與光電行業上下游進行商貿洽談，達成商業合作。北京歐屹科技有限公司此次受邀參展。

在此次展會上，歐屹科技精心準備，帶來行業內性價比高的產品，主要展出：雙折射測量儀，應力測量儀，白光+激光共聚焦顯微鏡，激光干涉內徑測量儀，奈米級三維形貌儀、無掩膜光刻機等精密光學儀器。

相信通過此次展會的交流，客戶對歐屹科技會有一個新的認識，對歐屹科技帶來的產品有更進一步的了解，為后續的合作打下基礎。

展品介紹：

1， 應力測量儀

來自日本PHL公司的PA和WPA系列雙折射應力測量儀，業內*超過70%。其中PA系列，廣泛應用于玻璃、各種鏡頭、人工晶體、SIC、藍寶石，晶圓等透明或半透明內部缺陷，雙折射變化，內部應力分布的測量。WPA系列，高達0-3500nm相位差范圍，幾乎適用于所有的透明半透明樣品的雙折射應力測量，特別是 高分子材料，注塑成型制品，薄膜（位相膜）應用廣泛，測量數據準確，軟件功能強，使用方便快捷。

2， 白光+激光共聚焦顯微鏡

日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦顯微鏡是白光＆激光共聚焦融合，實現一般激光（白光）共聚焦顯微鏡無法實現的高性能與多功能，以雙共聚焦光學系為基礎，搭載微分干涉觀察，垂直白光干涉測定，相差干涉測定，反射分光膜厚測量等功能，通常多臺設備才能完成的測量，僅需我們的一臺設備就可實現。儀器特點：高放大倍數，高分辨率，高對比度，納米級異物或損傷的可視化，納米級透明膜的厚度測量，埃米級型狀測試，數毫米寬視野范圍納米型狀測量。

3， 激光干涉內徑測量儀

Adamand Namiki開發了NMH-01通過微電機和光學成像探頭，利用光學干涉實現內型面的測量，內徑測量最小可達1.1mm，同時測量內徑、真圓度、內型表面粗糙度和形貌。

4， 無掩膜光刻機

無掩膜光刻機UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結合的縮小投影型無掩模曝光系統，其價格底于傳統系統（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統） ，可以使用專門為此目的開發的軟件來創建想要的圖案。